什么是光刻胶？一文带你了解全部
光固化与光刻胶2026-11-05 15:10:47光刻胶技术7来源: 光固化和光刻胶的技术与应用
光刻胶的分类
根据显影后的效果，光刻胶可以分为正性光刻胶和负性光刻胶两大类：
正性光刻胶：曝光前对显影液不可溶，曝光后曝光部分溶解于显影液，形成的图形与掩膜版遮光区相同。正性光刻胶因其较高的分辨率和更好的图形保真度而在芯片制造中应用更为广泛。
负性光刻胶：显影时未曝光部分溶解于显影液，形成的图形与掩膜版遮光区相反。尽管负性光刻胶在某些特殊应用中仍有使用，但由于其在显影过程中可能发生变形和膨胀的情况，不如正性光刻胶普遍。
光刻胶的成分及其作用
光引发剂：吸收光能后生成活性中间体，引发聚合反应或其他化学反应，是光刻胶的关键组分，对光刻胶的感光度和分辨率起决定性作用。常见的光引发剂包括光致产酸剂（PAG）和感光化合物（PAC）。
PAG：在吸收光后产生酸，这些酸作为催化剂促使树脂上的酸不稳定基团脱落，从而改变树脂的碱溶解性。主要用于化学放大型光刻胶中，如KrF、ArF、EUV光刻胶。
PAC：重氮萘醌酯化合物，在光作用下从溶解抑制剂转变为溶解促进剂，主要用于线性酚醛树脂体系光刻胶中，如g线/i线光刻胶。
光刻的工艺流程
涂胶：将光刻胶均匀涂抹在硅片表面，形成一层薄薄的光刻胶膜。
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