什么是光刻胶？一文带你了解全部

光刻是芯片制造的核心工艺，而光刻胶则是这一工艺中最为关键的材料之一，被誉为“半导体的液体黄金”。光刻胶是一种对光敏感的混合液体，其在紫外光或低波长光等辐射作用下的化学变化，对于形成芯片图案至关重要。光刻胶的分类根据显影后的效果，光刻胶可以分为正性光刻胶和负性光刻胶两大类：正性光刻胶：曝光前对显影液不可溶，曝光后曝光部分溶解于显影液，形成的图形与掩膜版遮光区相同。正性光刻胶因其较高的分辨率和更好的图形保真度而在芯片制造中应用更为广泛。负性光刻胶：显影时未曝光部分溶解于显影液，形成的图形与掩膜版遮光区相反。尽管负性光刻...