光固化技术在光刻胶中的应用

光固化技术在光刻胶中的应用光刻本质就是空间选择性的光固化（光化学反应）：用光触发局部聚合/交联/断键，让曝光区与未曝光区产生显影溶解度差，从而把掩膜图形转移到基材；常规光固化以“固化成膜、提升力学/耐化性”为目标，光刻胶的光固化核心目标是成像、分辨率、线宽控制、刻蚀耐受性。一、光刻胶光固化三大反应机理1. 自由基光固化（负胶主流）光引发剂吸收光子裂解产生自由基，引发丙烯酸酯、烯烃等活性单体/低聚物发生链式聚合、交联，形成不溶网状结构；曝光区固化、显影保留。代表：PCB干膜、SU-8、厚胶、MEMS胶；特点：固化速度...