光刻胶
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光固化技术在光刻胶中的应用
光固化技术在光刻胶中的应用光刻本质就是空间选择性的光固化（光化学反应）：用光触发局部聚合/交联/断键，让曝光区与未曝光区产生显影溶解度差，从而把掩膜图形转移到基材；常规光固化以“固化成膜、提升力学/耐化性”为目标，光刻胶的光固化核心目标是成像、分辨率、线宽控制、刻蚀耐受性。一、光刻胶光固化三大反应机理1. 自由基光固化（负胶主流）光引发剂吸收光子裂解产生自由基，引发丙烯酸酯、烯烃等活性单体/低聚物发生链式聚合、交联，形成不溶网状结构；曝光区固化、显影保留。代表：PCB干膜、SU-8、厚胶、MEMS胶；特点：固化速度...
光固化光刻胶 -
什么是光刻胶？一文带你了解全部
光刻是芯片制造的核心工艺，而光刻胶则是这一工艺中最为关键的材料之一，被誉为“半导体的液体黄金”。光刻胶是一种对光敏感的混合液体，其在紫外光或低波长光等辐射作用下的化学变化，对于形成芯片图案至关重要。光刻胶的分类根据显影后的效果，光刻胶可以分为正性光刻胶和负性光刻胶两大类：正性光刻胶：曝光前对显影液不可溶，曝光后曝光部分溶解于显影液，形成的图形与掩膜版遮光区相同。正性光刻胶因其较高的分辨率和更好的图形保真度而在芯片制造中应用更为广泛。负性光刻胶：显影时未曝光部分溶解于显影液，形成的图形与掩膜版遮光区相反。尽管负性光刻...
光刻胶 -
2026年11月5日每日光固化行业简报：三井化学拟1.3万亿日元收购JSR，光刻胶板块高开逾2%，光固化3D打印转入批量交付
2026年11月5日每日光固化行业简报：三井化学拟1.3万亿日元收购JSR，光刻胶板块高开逾2%，光固化3D打印转入批量交付 日期：2026-11-05 分类：光固化新闻 关键词：光固化、光刻胶、UV固化、3D打印 11月5日，光固化与光刻胶两条主线同时出现新变量。海外方面，日本半导体材料行业传出重磅并购：三井化学拟从日本产业革新投资机构（JIC）手中收购全球第二大光刻胶供应商JSR，交易金额预计超过1.3万亿日元，...
光固化光刻胶UV固化3D打印光引发剂
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